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Technical articles

技術(shù)文章

20257-11

紫外臭氧清洗機(jī)可為各行業(yè)的表面處理提供解決方案
紫外臭氧清洗機(jī)憑借其在清潔、環(huán)保節(jié)能、安全可靠等多方面的優(yōu)勢(shì)，在現(xiàn)代工業(yè)及科研等領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展與完善，其應(yīng)用范圍還將持續(xù)拓展，為各行業(yè)的表面處理提供解決方案，助力推動(dòng)相關(guān)產(chǎn)業(yè)向更高質(zhì)量、更可持續(xù)方向發(fā)展。紫外臭氧清洗...
20256-25

烤膠機(jī)的應(yīng)用與操作規(guī)范
烤膠機(jī)是一種是一種設(shè)計(jì)為準(zhǔn)確控溫、準(zhǔn)確計(jì)時(shí)、高熱均勻性的高性能實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)定時(shí)控溫烤膠操作，主要用于半導(dǎo)體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導(dǎo)電玻璃等工藝的制版的表面涂覆后薄膜烘干、固化?？灸z機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域：1、半導(dǎo)體制造：用于前烘、堅(jiān)膜...
20256-24

等離子去膠機(jī)的原理基于等離子體的物理和化學(xué)作用
等離子去膠機(jī)是一種利用低溫等離子體技術(shù)去除半導(dǎo)體、微電子、光電等領(lǐng)域中光刻膠殘留的設(shè)備，其原理基于等離子體的物理和化學(xué)作用，能夠高效、環(huán)保地去除有機(jī)污染物，廣泛應(yīng)用于芯片制造、封裝測(cè)試等工藝環(huán)節(jié)。氣體電離：在真空腔體內(nèi)，通過(guò)射頻(RF)電源...
20256-5

RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的應(yīng)用貫穿了整個(gè)微納制造領(lǐng)域
在芯片制造、傳感器開(kāi)發(fā)或微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)生產(chǎn)中，材料的微米甚至納米級(jí)加工是決定產(chǎn)品性能的關(guān)鍵。RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)傳感器表面的微結(jié)構(gòu)需要準(zhǔn)確到微米級(jí)厚度，它通過(guò)物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)的協(xié)同作用，成為半導(dǎo)體和微納制造領(lǐng)域的核心技術(shù)工具。RI...
20255-23

關(guān)于等離子表面處理儀，三分鐘您就懂
等離子表面處理儀是一種在材料表面改性領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用的設(shè)備，它利用等離子體這一特殊的物質(zhì)形態(tài)，對(duì)材料表面進(jìn)行準(zhǔn)確的處理，從而改善材料的表面性能，滿足不同行業(yè)對(duì)材料性能的多樣化需求。等離子體是一種由帶電粒子(如離子、電子)和中性粒子(如原子...
20254-26

RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的日常維護(hù)
RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來(lái)進(jìn)行刻蝕的，利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕，即是利用離子能量來(lái)使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)，同時(shí)離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用。RIE反...

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華儀行（北京）科技有限公司

企業(yè)歷程:◆2006年，在美國(guó)加州洛杉磯注冊(cè)成立賽福國(guó)際集團(tuán)有限公司（CIFInternationalGroupCo.,Ltd）。成立之初是一家面向大學(xué)科研院所銷售儀器設(shè)備的供應(yīng)商?！?008年，自主研發(fā)生產(chǎn)石墨電熱板以來(lái)，先后研發(fā)生產(chǎn)酸蒸逆流清洗器、酸純化器、智能消解儀等理化實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備，從此走上研發(fā)生產(chǎn)專業(yè)化道路。◆2010年，掌握了等離子核心技術(shù)，自主研發(fā)生產(chǎn)科研型等離子清洗機(jī)系列產(chǎn)品?！?014年，在中國(guó)注冊(cè)成立華儀行（北京）科技有限公司，正式進(jìn)入中國(guó)市場(chǎng)，部分儀器設(shè)備研發(fā)、制造業(yè)務(wù)移至...

華儀行（北京）科技有限公司

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