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等離子清洗機使用的技術原理分析闡述

更新時間:2017-08-25       點擊次數:2183
     等離子清洗機主要是利用等離子體里的離子作純物理的撞擊,把材料表面的原子或附著材料表面的原子打掉,由于離子在壓力較低時的平均自由基較輕長,有得能量的累積,因而在物理撞擊時,離子的能量越高,越是有的作撞擊,所以若要以物理反應為主時,就必須控制較的壓力下來進行反應,這樣清洗效果較好,等離子清洗機為了進一步說明各種設備清洗的效果。
    等離子清洗機原理與超聲波原理不同,當艙體里接近真空狀態(tài)時,開啟射頻電源,這時氣體分子電離,產生等離子體,并且伴隨輝光放電現(xiàn)象,等離子體在電場下加速,從而在電場作用下高速運動,對物體表面發(fā)生物理碰撞,等離子的能量足以去除各種污染物,同時氧離子可以將有機污染物氧化為二氧化碳和水蒸氣排出艙體外。
    等離子清洗機不需要其他的原料,只要空氣就能夠滿足要求,使用方便而且沒有污染,同時比超聲波清洗更具有的優(yōu)勢是等離子不但可以進行表面清洗,更重要的是可以提高表面活性,等離子體與物體表面進行化學反應能夠產生活性化學集團,這些化學集團有很高的活性,從而應用范圍很廣,比如提高材料表面粘接能力,提高焊接能力,邦定性,親水性等等很多方面,因此等離子清洗已經成為清洗行業(yè)的主流與趨勢。
    等離子體清洗機的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。
    等離子清洗機技術的zui大特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實現(xiàn)整體和局部以及復雜結構的清洗。
    等離子清洗機還具有以下幾個特點:容易采用數控技術,自動化程度高;具有高精度的控制裝置,時間控制的精度很高;正確的等離子體清洗不會在表面產生損傷層,表面質量得到保證;由于是在真空中進行,不污染環(huán)境,保證清洗表面不被二次污染。
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